拜登傻眼了！国产新型光刻机已正式投入到正常的使用中外媒：中国太可怕

  近日，美日荷结成三国芯片联盟，再次加码升级对我国进口光刻设备的限制，给我国芯片产业的发展再添了一堵墙。可能很多人都认为这是一个坏消息，都在痛骂老美。

  然而，如果我们换个角度来看这件事，这又何尝不是给国产光刻机的研发注入了一支强心剂呢？有时候，后面有只恶狼追着，会让我们跑得更快，不是吗？

  这不，就在近日，国产光刻机又传来了两个振奋人心的好消息。一个是首台国产光刻机正式投入到正常的使用中。另一个是接近式光刻机正式投入市场，步进式光刻机也已启动用户优化工作。

  而美国总统老拜得知此消息后，也傻了眼，没想到中国光刻机这么快就造出来了！外媒禁不住感叹：中国太可怕了！

  说到光刻机，通过最近一段时间的了解，想必大家都已经不陌生了。它是制造芯片的核心关键设备，目前全世界内能排得上号的只有荷兰ASML、日本尼康和佳能，还有我国的上海微电子四家。

  其中，ASML自然是老大，占据市场占有率最大，总体占到了60%以上的份额，而且在高端EUV光刻机领域几乎占到100%的份额，处于垄断地位。

  尼康和佳能主要生产的是中低端光刻机，所占的市场占有率，按2021年的数据分析来看，尼康占了6%，佳能占了29%。实际上，尼康和佳能都是光刻机界的老大哥了，当年他们兴盛的时候，ASML还不知道在哪儿“玩粑粑”呢！只是后来，日本的泡沫危机导致国力衰退，再加上日本人骨子里那种一条道走到黑的精神，后来玩砸了，就被ASML给逆袭了！

  不过，现在的尼康还是很厉害的，已能量产7nm以下工艺的DUV浸润式光刻机。（注意：此次三国芯片联盟限制向我国进口的光刻机里就有它，足见性能非常了得！）

  而佳能呢，因为实在干不过ASML，后来就开窍了，不正面硬刚了，转去研究“纳米压印光刻”（NIL）“技术去了，看来它也想来个弯道超车！还别说，果然有突破。在NIL专利上，佳能已经做到了一支独秀。目前正在加紧研发新一代NIL光刻机技术，要实现5nm精度的目标呢，真是志向远大，不得不佩服。

  说完了国外的光刻机，接下来该说咱们中国的国产光刻机了，首屈一指的当然是上海微电子了。目前上海微电子已经量产的是90nm光刻机，不过据说28nm的光刻机已经到了最后的攻坚阶段，估计不久也将问世。

  此次投入到正常的使用中的正是上海微电子的国产光刻机，落户的企业是昆山同兴达。该企业主营的方向是半导体芯片的封测领域，所以这次引进的是封测光刻机，而且一口气买了2台，每台售价1800万元。大多数都用在金凸块的封测，预计今年5月开始量产。

  其实，光刻机不是只有制造芯片那一种，除了按光源先进程度分为EUV、DUV、UV以外，按用途还可分为制造芯片用的前道光刻机和封测用的后道光刻机。要知道我国在封测领域目前可是处于全球领先水平，而上海微电子在封测光刻机领域的市场占有率也举足轻重，在国内市场已达到80%左右，在全球市场也能占到40%。早在去年，上海微电子就已经推出了首台2.5D / 3D先进的封装光刻机。

  这个好消息是从大族激光传来的。这家企业虽然我们之前没怎么听说过，但是也很了不起。1996年成立于深圳，是国家重点高新技术企业，主营方向是激光加工的解决方案及相关的配套设施。在激光行业名气非常大，甚至占据了激光行业的“半壁江山”。

  让人头疼的是，这里又出来两个新名词：接近式光刻机和步进式光刻机，下面小编来粗略地介绍一下。

  先说接近式光刻机，它是一种特殊的光刻机，它使用接近光学系统来制作图案。它的优点很多，可以概括为“三高”，不过指的可不是高血压、高血糖、高血脂，而是高精度、高速度、高效率。通常用于制造微纳米级的半导体器件、生物医学微器件等。

  再看步进式光刻机，它是最早的光刻机之一，早在上世纪60年代就开始应用于半导体制造了。它利用光学系统，能在基材上制作出很多份相同的图案。

  它的优点是“两高”——高速度、高效率，是制造大批量半导体芯片等产品的理想工具，是光刻技术不可或缺的组成部分，在半导体制造、微纳米加工、生物医学等领域多有应用。

  通过以上两个好消息，我们大家可以感受到，即便是在国外的重重技术封锁下，我国对光刻机的研究非但从未放弃过、停止过，而且更加积极、主动，动力十足，所以才有了上面那些最新的研究成果。相信有国家对我国半导体产业的持续加大投入，以及全中国科研人员的共同努力攻关，中国的国产光刻机一定能加速发展，中国芯的崛起指日可待！

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